第458章 一份名单（3 / 4）
换句话来说就是美国可以让任何的企业得不到芯片，也可以通过这样的手段，让一家规模巨大的科技企业因为缺乏芯片而休克。
许青山印象很深，在未来的一段时间里，机会有企业因为被美国制裁而由盛转衰。
在之后真正能够突破美国的技术控制和封锁的也只有那么一家企业。
所以许青山现在所做的所有事都是为了建立起一套不包含任何美国技术的芯片制造体系。
这件事的难度非常之大，需要有强有力的组织者和完整庞大的各方向工业供应链的参与，同时也需要非常庞大的资金支持和超强的技术力投入。
在这种前提下，如果没有预先的技术基础，那起码需要经过艰苦绝伦的十年时光，才有可能让华夏的芯片产业同步到全球最先进的行列。
因为当你在认真的做研发的时候，全球其他拥有领先地位的公司也能够依赖着他们的技术先发优势去继续开拓行业的边界。
只不过许青山现在的操作打破了这一局面，而且是在不声不响的情况下。
他直接来了一手盗火种。
或许全世界的科学家和政客们绞尽脑汁都不会想到这么一位顶级的科学家竟然会亲自出马，跑到别人的地盘上去偷袭别人的厂房，直接1:1原汁原味的复刻别人的技术。
这种操作是这个世界上其他人根本没有办法模仿和复刻的。
首先，你需要有一个最强大脑，不仅要完全通行整个行业所涉及到的各方各面的技术，甚至包括其技术原理也要了如指掌。
其次，你还需要有一个容量极大的记忆空间，能够帮助你记住成千上万个零部件的各种数据和精密细节，在这种超级精密的仪器之中，哪怕是一毫米的误差，都是足够让整台机器直接罢工的巨大误差。
最后，你的行动还需要有国家的权力支持，并且有人愿意全程保障你的安全，为你献出生命。
除此之外还会有各种各样的条件限制，比如语言能力，情商技巧，谋略规划
哪怕是华夏，自己都绝不可能再让许青山出去冒这样的险第二次。
但许青山自己认为他现在所做到的一切都是值得的。
因为从此时此刻开始，他们仅仅用了一年的时间，就让华夏的芯片站在了世界的最前列。
而且这还远远不是他们目前所研究的各种技术组合起来的极限。
只是他们能够对外公布和对国家交代的成品结果。
除了十分超前的duv光源系统。
许青山团队中一位来自东北某顶级工业院校的教授，也带组研发出了“放电等离子体极紫外光刻光源”，能够输出13.5nm波长euv光，直接填补了国内euv光源空白。
除了光源技术上的全面突破之外。
许青山带着这个超级强大的团队所研发出来的新型光刻技术路线也实现了零美国技术含量的弯道超车。
其中无掩模直写光刻技术，就是最先把14纳米制程实现的技术。
是的，你并没有看错，是最先，因为许青山这个仅有40多人的超级团队，同时同步进行着多项技术的开发，以防止各种技术在未来量产的时候受到外方限制。
除了无掩模直写光刻技术之外，还有基于duv光刻机，通过多次曝光迭加图形，多多重图案化技术，不仅十分适配14纳米工艺还能够达到极高的工件台精度。
除了以上的这些之外，其他的各项突破相较起来反而显得没有那么亮眼。
例如数值孔径的提升，智能控制系统的优化，以及材料方面的突破。
当然，许青山的这个研究基地并不能完全覆盖芯片制造的所有流程。 ↑返回顶部↑
许青山印象很深，在未来的一段时间里，机会有企业因为被美国制裁而由盛转衰。
在之后真正能够突破美国的技术控制和封锁的也只有那么一家企业。
所以许青山现在所做的所有事都是为了建立起一套不包含任何美国技术的芯片制造体系。
这件事的难度非常之大，需要有强有力的组织者和完整庞大的各方向工业供应链的参与，同时也需要非常庞大的资金支持和超强的技术力投入。
在这种前提下，如果没有预先的技术基础，那起码需要经过艰苦绝伦的十年时光，才有可能让华夏的芯片产业同步到全球最先进的行列。
因为当你在认真的做研发的时候，全球其他拥有领先地位的公司也能够依赖着他们的技术先发优势去继续开拓行业的边界。
只不过许青山现在的操作打破了这一局面，而且是在不声不响的情况下。
他直接来了一手盗火种。
或许全世界的科学家和政客们绞尽脑汁都不会想到这么一位顶级的科学家竟然会亲自出马，跑到别人的地盘上去偷袭别人的厂房，直接1:1原汁原味的复刻别人的技术。
这种操作是这个世界上其他人根本没有办法模仿和复刻的。
首先，你需要有一个最强大脑，不仅要完全通行整个行业所涉及到的各方各面的技术，甚至包括其技术原理也要了如指掌。
其次，你还需要有一个容量极大的记忆空间，能够帮助你记住成千上万个零部件的各种数据和精密细节，在这种超级精密的仪器之中，哪怕是一毫米的误差，都是足够让整台机器直接罢工的巨大误差。
最后，你的行动还需要有国家的权力支持，并且有人愿意全程保障你的安全，为你献出生命。
除此之外还会有各种各样的条件限制，比如语言能力，情商技巧，谋略规划
哪怕是华夏，自己都绝不可能再让许青山出去冒这样的险第二次。
但许青山自己认为他现在所做到的一切都是值得的。
因为从此时此刻开始，他们仅仅用了一年的时间，就让华夏的芯片站在了世界的最前列。
而且这还远远不是他们目前所研究的各种技术组合起来的极限。
只是他们能够对外公布和对国家交代的成品结果。
除了十分超前的duv光源系统。
许青山团队中一位来自东北某顶级工业院校的教授，也带组研发出了“放电等离子体极紫外光刻光源”，能够输出13.5nm波长euv光，直接填补了国内euv光源空白。
除了光源技术上的全面突破之外。
许青山带着这个超级强大的团队所研发出来的新型光刻技术路线也实现了零美国技术含量的弯道超车。
其中无掩模直写光刻技术，就是最先把14纳米制程实现的技术。
是的，你并没有看错，是最先，因为许青山这个仅有40多人的超级团队，同时同步进行着多项技术的开发，以防止各种技术在未来量产的时候受到外方限制。
除了无掩模直写光刻技术之外，还有基于duv光刻机，通过多次曝光迭加图形，多多重图案化技术，不仅十分适配14纳米工艺还能够达到极高的工件台精度。
除了以上的这些之外，其他的各项突破相较起来反而显得没有那么亮眼。
例如数值孔径的提升，智能控制系统的优化，以及材料方面的突破。
当然，许青山的这个研究基地并不能完全覆盖芯片制造的所有流程。 ↑返回顶部↑