第458章 盾构机（7 / 12）
“光源上我们可以向准分子激光光源靠近，如krf248和arf193，甚至采用极紫外光源。”李暮做了个小小的总结。
当然，最后的极紫外光源，就是提出来凑个数，让黄新华等人先有个概念而已。
最⊥新⊥小⊥说⊥在⊥六⊥9⊥⊥书⊥⊥吧⊥⊥首⊥发！
毕竟在未来，突破极紫外光刻技术，将是夏国势在必行的研究计划。
……
说完了光源。
李暮接着又说起光学系统。
现在他们的光学系统，还属于相对初级阶段。
主要采用的是2:1投影光学系统。
这种技术将掩模上的图案以2:1的比例投影到晶圆上，设计相对简单，分辨率也受到不小的限制。
如果可以提升到4:1，甚至是5：1的话。
解决100w集成度的标准，不会有任何问题。
除此之外，还可以在高数值孔径透镜和浸没式光学系统方面下功夫。
只不过以目前的技术来说，想要同时推进三者的研究，难度实在太大了。
好在也没必要在光学系统上死磕。
掩模技术上可以搞相移掩模、光学邻近矫正和多重图案技术。
光刻胶材料朝着深紫外光刻胶的方向发展。
机械和控制系统就去研制精密对准和调平系统。
多管齐下的话。
足够在短时间内实现集成度的迅速突破。
……
用了两个小时左右的时间。
李暮才将所有的内容都阐述完毕。
他说完后。
黄新华“唰唰~”地记完最后一笔，当即惊叹道：
“没想到你竟然还能找出这么多的办法，这下100w集成度的问题就都解决了！”
他忽然有点理解m帝和老大哥那边的心情了。
自己连落后的技术都还没有研究出来。
李暮这边一出手就是一堆的更新的方案，差距简直不要太明显。
而且他几乎可以肯定，这些方案具有极高的可信度。 ↑返回顶部↑
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他说完后。
黄新华“唰唰~”地记完最后一笔，当即惊叹道：
“没想到你竟然还能找出这么多的办法，这下100w集成度的问题就都解决了！”
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