第58章 命运的摇头(2 / 3)

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  “谢谢师兄,我记住了。”
  李观认真地点了点头,他能感受到对方话语里真切的关心。
  九点出头的时候大多数的人都离开了实验室,就剩寥寥几人一脸愁容的看著实验数据。
  李观看了眼时间,再次穿戴妥当进了洁净区。
  “他怎么又进去了?”
  “谁知道?实验没做完?”
  “有点太卷了吧。”
  “听老向说他下午做的实验数据,比老包之前最高的那次还要好。”
  “真的假的?”
  “我也听说了,说是迁移率直接干到300了,还是老包亲自检测的数据。”
  “这么嚇人?哪儿来的大神啊?清北的?科院没听说过这號啊?”
  洁净室里的李观根本听不到外面大家的议论,听到也只会一笑而过,当下最重要的是观察二硫化鉬单晶薄膜是否製备成功。
  “真成了!”
  从显微镜中看到薄膜的时候李观有些开心,他在做之前並不能保证百分百的成功率,甚至只有一半一半的把握。
  一半成,一半重来。
  毕竟是完全不同的技术路线,尤其是只要单晶而不堆叠,这非常考验他的技术。
  这下成了,他的心也放下了一半。
  “接下来就该静电转印了。”
  他启动静电印章,静电力瞬间捕获了这片单晶薄膜,他缓缓地將其转移至新的sio?衬底,全程没有任何的污染,毕竟纳米层级有一丝的沾染都只有失败的结局。
  “接下来就是最为困难的一步了。”
  如果说前面是五五开,那这个步骤就只有三七开了,李观做好了失败的准备。不行就凌晨出去跑三公里,强制重启新一天,连夜重开。
  他將衬片转移进了ald腔內。
  “通氮吹扫,温度升至150°c。”
  李观有些紧张地默念著,按下了启动键。
  腔內温度稳定后,三甲基铝脉衝注入,分子在薄膜表面吸附,与之反应形成了单层al–ch?,多余的被氮气吹走。
  接著水蒸气脉衝注入,水解了残留物,在薄膜表面生成了al?o?。
  这样循环一次仅能生长0.11nm,而需要3nm厚度就需要循环30次,要保证吸附均匀,一次不能出错。否则后续就会像被搭歪了的积木一般,前功尽弃。
  “稳住。”
  李观心中默念,设定了30次循环。
  监控屏幕上,显示著材料质量在逐步增加。半个小时后,沉积完成。 ↑返回顶部↑

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